薄膜沉積設(shè)備(如化學(xué)氣相沉積CVD和物理氣相沉積PVD)是半導(dǎo)體制造中用于在晶圓表面沉積薄層材料的關(guān)鍵設(shè)備。這些設(shè)備依賴高純工藝氣體(如硅烷、氨氣)在真空或高壓環(huán)境下發(fā)生反應(yīng)，形成導(dǎo)電或絕緣層。沉積過程的均勻性和純度直接影響器件性能，例如在存儲(chǔ)芯片或處理器制造中，薄膜厚度偏差僅允許納米級(jí)誤差。設(shè)備通常包括真空室、氣體注入系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，要求氣體無污染以避免沉積缺陷。

為什么使用過濾器

薄膜沉積過程中，氣體若含有微粒或烴類污染物，會(huì)導(dǎo)致薄膜孔洞、剝落或電性失效。例如，在CVD工藝中，顆粒物可能成為成核點(diǎn)，引起不均勻沉積;在PVD中，污染物可能干擾濺射靶材的純度。過濾器能消除湍流和顆粒攜帶問題，確保氣流平穩(wěn)，防止工藝腔體污染。恒歌KF系列真空系統(tǒng)氣體過濾器專為此設(shè)計(jì)，通過減少排氣湍流，提升產(chǎn)品產(chǎn)量和設(shè)備吞吐量。

過濾器介紹

恒歌的KF系列真空系統(tǒng)氣體過濾器專為薄膜沉積設(shè)備優(yōu)化，適用于CVD、PVD等真空室的氣體回填和通風(fēng)。該過濾器采用全316L不銹鋼結(jié)構(gòu)，過濾精度達(dá)0.003μm，支持快速清潔的氣流傳輸。文檔指出，它在規(guī)范安裝下可確保3.000.000次循環(huán)完整性，兼容多種工藝氣體，如惰性氣體和特種氣體。其設(shè)計(jì)注重低湍流，避免氣體吹起顆粒影響沉積均勻性。

過濾器特點(diǎn)

● 耐壓耐溫：整體316L不銹鋼構(gòu)造，耐高溫、耐腐蝕，工作壓力覆蓋真空至高壓環(huán)境，溫度適應(yīng)-28°C至+482°C。

● 高效過濾：超高顆粒攔截率，通過100%完整性測(cè)試和氦氣檢漏測(cè)試，確保氣體純凈。

● 流量性能：流量壓差曲線顯示，在進(jìn)氣壓力kPa下保持低阻損，如Z01K-00076型號(hào)在23°C時(shí)流量穩(wěn)定。外形尺寸緊湊，易于安裝于裝載鎖或傳輸腔體。

● 定制化：可定制不同流量和尺寸，適配各種沉積設(shè)備接口。

● 它適用于短時(shí)間大流量氣體傳遞，減少維護(hù)需求。

產(chǎn)品應(yīng)用

KF系列主要用于薄膜沉積設(shè)備的真空系統(tǒng)，如CVD反應(yīng)器的氣體注入管線、PVD濺射機(jī)的氣路保護(hù)，以及半導(dǎo)體廠的工藝腔體通風(fēng)。在航空航天和新能源領(lǐng)域，它用于涂層設(shè)備的氣體凈化，提高薄膜附著力。在MEMS制造中，該過濾器幫助實(shí)現(xiàn)納米級(jí)沉積精度，降低缺陷率。應(yīng)用場(chǎng)景還包括光伏電池的沉積環(huán)節(jié)，保障長(zhǎng)期可靠性。