深圳恒歌DF系列真空腔體快速放氣器，是針對半導體制造中真空腔體高效破真空需求研發(fā)的專用裝備。這款產(chǎn)品打破了“快速排氣與環(huán)境潔凈不可兼得”的行業(yè)瓶頸，通過不銹鋼粉末燒結(jié)介質(zhì)的高效流通特性與0.003μm精密過濾能力，在實現(xiàn)毫秒級快速放氣的同時，杜絕氣流擾動與顆粒污染，為晶圓制程的連續(xù)性與穩(wěn)定性提供核心支撐。

產(chǎn)品特點

● 極速排氣設(shè)計：優(yōu)化的流道與燒結(jié)介質(zhì)結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)真空腔體快速放氣，提升生產(chǎn)效率。

● 湍流抑制技術(shù)：全 316L 不銹鋼一體成型結(jié)構(gòu)，引導氣流平穩(wěn)流動，避免顆粒揚起。

● 納米級凈化過濾：過濾精度達 0.003μm，有效攔截氣體中微量顆粒，保護工藝環(huán)境。

● 全工況耐受性能：耐高溫、耐高壓且耐腐蝕，適配各類嚴苛工藝條件。

● 100% 質(zhì)量認證：通過完整性測試與氦氣泄漏檢測，確保每臺設(shè)備性能可靠。

應用場景

廣泛應用于半導體晶圓制造的各類真空工藝設(shè)備：在晶圓清洗機的真空干燥腔中，實現(xiàn)快速排氣的同時防止水汽攜帶顆粒污染;在薄膜蝕刻設(shè)備中，保障腔室破真空時的氣流穩(wěn)定，避免蝕刻圖案變形;在晶圓傳輸腔中，配合自動化系統(tǒng)實現(xiàn)高效換片。特別適配 300mm 晶圓生產(chǎn)線的高節(jié)拍生產(chǎn)需求，同時可用于 LED 制造的 MOCVD 設(shè)備及半導體封裝測試的真空腔體系統(tǒng)。